荷證配合美封殺措施 收緊DUV光刻機出口

荷蘭政府終於證實，該國會配合美國封殺中國半導體業的措施，進一步收緊半導體設施出口限制，擴至深紫外光刻機（DUV）也要面對限制。

荷蘭政府週三下午向國會提交文件，解釋收緊半導體業產品出口的方案。文件完全沒有提及中國或光刻機巨頭艾司摩爾（ASML），但明顯目的是要阻止更多ASML產品出口至中國。

文件依然含糊，只表示如果相關半導體技術可軍民兩用、導致荷蘭長期依賴某一國家、或者／以及損害荷蘭的科技領導地位，荷蘭政府便會禁止這些產品出口。

文件說，新規定會阻止最先進的半導體技術出口，有更多產品在出口前要向政府申請許可，但除了明確提及DUV光刻機外，沒有再提及還有什麼技術和產品受限制。

目前，ASML已不獲批准向中國出口最先進的光刻機，包括極紫外光刻機（EUV）。

荷蘭需要在國會修例，才能實施新限制，並會通知歐盟及其他成員國，要求採取跟荷蘭相同的措施。

ASML回應說，他們初步評估，新限制不會影響公司對2023年的業績預測。

美國去年10月全面收緊中國半導體業的封殺行動，但若要真的有效，需要荷蘭和日本配合，因為兩國都出產在全球半導體業中必需的設備。

盛傳美國、日本和荷蘭今年1月底達成協議，荷日兩國同意配合美國，但三國一直沒有1月底的共識發表聲明，荷蘭週二的文件是首次證實這個傳聞。據報日本本週內會公佈配合美國封殺中國的方案。

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